薄膜光学实验室

磁控溅射镀膜机

更新时间:2023-11-23 【打印】 【关闭

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 设备参数

 设备联系人

 

 
  • 制造商:沈阳世昂真空技术有限公司
  • 主要参数:
    腔室内径:1320 mm
    沉积方式:磁控溅射沉积
    最大元件尺寸:Ф150 mm × 40 mm
  • 功能:
    制备金属膜、极紫外/X射线多层膜
    孙建
    021-69918251
     

    • 制造商:北京泰科诺科技有限公司
    • 主要参数:
      腔室内径:5000 mm × 200 mm × 500 mm(长宽高)
      沉积方式:磁控溅射沉积
      最大元件尺寸: 1400 mm × 120 mm × 300 mm
    • 功能:
      制备金属膜
      孙建
      021-69918251