图1

                             图2

                              图3

                              图4

               图5

               图6

               图7
                

 一、       课题进展及主要研究结果

我们在软X射线多层膜的制备技术、软X射线多层膜反射镜、软X射线多层膜衍射元件、软X射线多层膜分光元件、软X射线多层膜的测试技术、改善和提高软X射线多层膜光学元件的特性以及软X射线多层膜的激光损伤等方面的研究均取得了较好的结果和进展。

在软X射线多层膜的制备技术上我们采用了磁控溅射和离子溅射两种沉积技术。对磁控溅射沉积技术提出了转速控厚法，并经多次改进发展为自动转速控厚法，这种控厚法明显降低了多层膜制备的劳动强度，提高了多层膜制备的成品率，在镀制复杂膜系多层膜时，具有更加明显的优势。

在软X射线多层膜反射镜的研制方面，我们对从长波23.4nm到短波1.22nm范围内的反射镜进行设计与研制。在13.9nm波长处8°入射时获得50%的反射率；在13.1nm波长处45°入射时获得26%的反射率；在1.22nm波长处9°掠入射时获得5.95%的反射率。

我们率先对二维、三维软X射线衍射光栅等软X射线多层膜衍射元件和软X射线多层膜分光元件进行了研究。成功地研制了二维反射型位相光栅，开展了三维二元矩形软X射线多层膜衍射光栅地初步研制工作。对于软X射线多层膜分光元件，我们对专题需求的13.9nm波长的分束镜进行了研制，用低角X射线衍射的方法进行了初步的测试，并在北京同步辐射反射率计上测得了45°入射时21%的透过率和2%左右的反射率；

在测试技术上我们采用了包括低角X射线衍射、电镜扫描、图象处理、台阶仪、光学轮廓仪、原子力显微镜、星光装置的等离子体反射率计以及北京同步辐射软X射线多层膜反射率计装置等各种测试手段和方法对我们研制的各种软X射线多层膜光学元件进行结构和特性的分析与测量，为改善和提高软X射线多层膜光学元件的特性提供了各种依据。 

图1~图7是我们的部分样品在北京同步辐射软X射线多层膜反射率计上测得结果。

二、主要成果    

1、 制备的软X射线多层膜反射镜已得到实际的应用；

2、制备的软X射线多层膜反射镜其光学性能已达到国际先进水平

3、软X射线多层膜衍射元件的研制是国内最早研制的单位之一，其中软X射线多层膜反射型位相光栅的研制获得成功，在北京同步辐射反射率计装置上获得测量结果；

4、软X射线多层膜分光元件的研制也领先于国内同行，在北京同步辐射反射率计装置上也已获得测量结果：13.9nm入射角45°时21%的透过率和2%左右的反射率；

5、在国内我们率先开展了软X射线多层膜激光损伤的研究。