光刻机系列薄膜入围2002上海市光科技专项行动

  为了进一步推动在信息，生命与健康，探测、照明和能源，先进制造与分析测试，先进材料等领域的光科技研究，上海市科学技术委员会于2002年继续推进光科技专项行动计划。项目指南的指导思想是鼓励原始创新，形成知识产权，促进产业发展。

  根据该项目的指导思想，并结合了自身的优势所在，我们申请了“光刻机系统中193nm薄膜以及13.5nm薄膜的研制”，并顺利通过了上海市科委专家组的评审。该项目集中在先进制造与分析测试领域的光科技研究领域，它的研制成功可为国家光刻机专项193nm光刻机的攻关提供技术保证，同时极紫外薄膜还可应用于医用激光技术、生物科学和其他有关的领域，具有重要的社会意义。同时该课题的成功申请，还标志着我中心在发挥自身学科优势，加强中科院与上海市的合作方面又迈出了可喜的步伐。

  上海市光科技专项行动计划，不仅为我中心提供了加强院地合作，展示优势和实力的平台，而且为实施知识创新工程试点二期工作提供了新的空间。此次申请成功的课题同时又是我中心二期创新设定的科技创新目标投向的重要方面。负责该项目的易葵副研究员表示中心科技人员完全有能力有信心在2年内，研制出实用化的光刻机系统中的193nm薄膜以及实用化的13.5nm薄膜，他还表示将在项目的组织机制上实行公司规范化的以市场为导向的管理方式。