2009年8月16日-19日，中国光学学会光学材料专业委员会在哈尔滨工业大学成功举办了2009年度学术交流年会。中国科学院上海光学精密机械研究所干福熹院士、中国科学院理化技术研究所吴以成院士、哈尔滨工业大学副校长张洪涛教授以及专业委员会主任邵建达研究员出席了本次会议。

　  此次会议参会代表68人，投稿摘要达58篇，会议选取了45篇口头报告。干福熹院士做了重要讲话，简要回顾了光学材料的发展历程，强调了光学材料在相关学科中的重要支撑作用，勉励大家深入开展基础研究、推进材料学科及相关技术的发展。吴以成院士作了题为“深紫外非线性光学晶体”的特邀报告。会议邀请报告还包括了复旦大学陈良尧教授、福建物构所王国富研究员等8位专家在相关领域最新进展的报告。会议设置了光学材料物理、光电信息功能材料、新型光学材料、微纳光子学材料和光学器件等5个专题。内容广泛而充实，代表们就共同感兴趣的问题进行了深入交流。

　  会议期间，专委会还召开了专委会工作会议。会议听取了此次交流会的筹备与进展情况报告，感谢哈尔滨工业大学物理系在举办本次会议作出的贡献；通过了增补华南理工大学杨中民教授为委员的决定；初步讨论了下一届学术交流会的举办地点和承办单位。全体委员围绕“专委会在国家关键科学技术领域中如何更好地发挥作用”的议题进行研讨。本次会议的召开将对光学材料领域加强国内合作交流，共同推动学科的发展产生积极的影响。

（光学薄膜技术研究与发展中心供稿）