信息光学与光电技术实验室

科技部国际科技合作项目“高端光刻机偏振照明关键技术联合研究”技术研讨会在上海光机所召开

更新时间:2012-09-17 【打印】 【关闭

9月2至8日,科技部中白国际合作项目“高端光刻机偏振照明关键技术联合研究”课题1与课题4的技术研讨会在上海光机所召开,白俄罗斯KBTEM-OMO光学公司、上海光机所、长春光机所、光电研究院与成都光电所的专家及中国长城工业集团有限公司的代表参加了会议。

本次会议的议题是对白俄罗斯KBTEM-OMO光学公司所作的高端光刻机偏振照明系统的初步设计方案和照明光瞳偏振参数检测传感器的机械设计方案进行评审。会议期间,双方重点就上述两个设计方案的创新性与可行性进行了详细与深入的讨论,并制订了下一步合作研究的计划与工作重点。(信息光电实验室供稿)