Abstract

多层膜是极紫外与X射线波段至关重要的光学元件，膜层厚度通常只有几纳米，膜层数高达几百甚至上千层，膜层厚度、界面、应力等问题等参数对元件的光学性能有很大的影响。本报告针对极紫外光刻、硬X射线纳米聚焦片、同步辐射应用等需求，从膜厚控制技术、横向梯度薄膜技术、界面控制技术等展开讨论，介绍了Mo/Si多层膜器件、同步辐射束线应用的纳米聚焦器件以及偏振器件的研制。此外，针对短波长高精度磁控溅射设备国产化方面的进展做了介绍。

Biography

朱京涛，同济大学教授，博导，毕业于复旦大学物理系，长期从事极紫外、软X射线与X射线多层膜及相关技术领域的研究。已完成国家自然科学基金6项，重点项目1项，国际合作交流项目1项，军口课题多项。作为技术骨干参与完成973，863等多项。在多项国家重大科学装置、计量标准物质等关键光学薄膜器件与系统研发工作中解决多项卡脖子的技术难题，相关成果实现产业化。在国际刊物上共发表学术论文140余篇，多次国际学术会议邀请报告，与国内、外著名实验室合作，开展学术交流。获国家自然科学基金和英国皇家物理学会牛顿基金联合资助，开展X光偏振光学薄膜研究，多次访问英国Diamond实验室，为新建I21光束线研制超薄梯度多层膜偏振片；曾获得上海市技术发明二等奖，军队科技进步三等奖各一项。