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光刻机光瞳整形与照明均匀化技术深入研究

信息来源：发布时间： 2015年12月22日【大中小】【打印】【关闭】

报告摘要：

报告人：张方（信光、直博五年级）导师：黄惠杰研究员

报告题目：光刻机光瞳整形与照明均匀化技术深入研究

报告时间：2015年12月23日下午13:50

报告地点：1号楼学术报告厅

光刻机是决定集成电路产业发展成败的关键设备，其重要指标之一是光刻分辨率，光刻分辨率由曝光系统的成像性能直接决定，照明系统作为曝光系统的一个重要组成部分，其关键技术包括光瞳整形和照明均匀化。我们结合目前承担的光刻机照明系统研制项目，对光瞳整形及照明均匀化技术进行了深入研究。

个人学习经历：

2011.09-至今上海光机所光学工程工学博士

2007.09-2011.07郑州大学电子科学与技术工学学士

获奖情况：

2015年国家奖学金，大恒光学奖学金优秀奖，上海光机所二等奖学金；

2014年中国科学院大学“三好学生”；

2012年国家奖学金，上海光机所三等奖学金，中国科学院大学“三好学生”。

代表性论文：

1、Fang Zhang, Jing Zhu, Weirui Yue, Jian Wang, Qiang Song, Guohai Situ, Frank Wyrowski and Huijie Huang, “An approach to increase efficiency of DOE based pupil shaping technique for off-axis illumination in optical lithography”, Optics Express, 23(4), 4482-4493 (2015).

2、Fang Zhang, Jing Zhu, Qiang Song, Weirui Yue, Jingdan Liu, Jian Wang, Guohai Situ, Huijie Huang, “Reducing aberration effect of Fourier transform lens by modifying Fourier spectrum of diffractive optical element in beam shaping optical system”. Applied Optics, 54(30), 8891-8898 (2015).

联系方式：

Email：zhangfang2631@126.com

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