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上海光机所知识创新简报

（第三七〇期）  

2015年4月9日  

上海光机所研制的248nm增透膜性能达到国际领先水平 

　　248nm准分子激光器技术由于输出波长短、能量高、具有窄的脉宽和很高的峰值功率，在工业等方面，尤其是高功率激光系统包括248nm光刻技术、激光医疗、激光精细加工中具有极广的应用前景，也是ICF领域一个重要的技术选项。248nm薄膜元件是准分子激光系统中重要的薄膜元器件，其光学损耗和抗激光损伤性能对激光系统的效率起着重大或决定性的作用。 

　　上海光机所研究了LaF3、MgF2、Al2O3和SiO2薄膜的低吸收、低损耗蒸发沉积工艺，在此基础上设计并制备了两种248nm增透膜，增透膜的剩余反射率均小于0.1%。“天光”准分子激光系统将本所制备的增透膜元件与国际最重要，也代表最高国际水平的德国研制元件进行了损伤阈值对比测试，测试波长248nm，脉宽24ns。结果显示，对比德国5.5J/cm2的损伤阈值，本所制备的LaF3/MgF2增透膜平均在7.5J/cm2，最高达到11J/cm2；Al2O3/SiO2制备的增透膜的损伤阈值平均在6J/cm2。证明上海光机所研制的248nm增透膜损伤阈值结果达到国际领先水平。（中科院强激光材料重点实验室供稿） 

　

 　图1. 两种材料组合制备的248nm增透膜的光谱曲线 

　　 

　　图2.  248nm增透膜的损伤阈值对比测试结果 

 
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