高功率激光物理联合实验室

实验室的研究方向

更新时间:2020-07-03 【打印】 【关闭

  高功率激光物理联合实验室(以下简称实验室)是中国科学院和中国工程物理研究院合办的、跨部门的科学技术研究实体,旨在推动我国激光惯性约束聚变研究的顺利发展。目前实验室的主要研究方向是大型高功率激光装置的研制和运行、高功率激光驱动器先进技术的发展,激光聚变、状态方程、X射线激光等相关物理实验研究。

  

   

  神光Ⅱ装置运行改进

  (1) 装置的各分系统的维护,从而保障装置优良的总体输出性能。

  (2) 对装置提出更高的技术要求,从而保证装置持续优质高效的运行状态。

  

   

  高功率激光总体、单元技术发展研究

  (1) 前端

  光束质量控制技术,激光脉冲波形精密控制技术的发展和研究。

  (2) 器件总体设计

  开展纳秒激光在高功率钕玻璃固体激光器中的传输及放大,涉及激光空间整形、光束的传输控制、脉冲激光的放大及控制等多个单元技术的理论研究及工程实施。

  (3) 终端靶场

  高功率激光驱动器终端靶场光学系统相关技术的研究,涉及靶场器件精密装校、高通量色分离、谐波转换、焦斑控制与束匀滑、焦斑检测、激光打靶落点精度系统分析、组件元件破坏监测系统、快速靶瞄准、皮秒拍瓦激光终端光学、靶场安全防护、杂散光吸收、光学材料破坏分析等技术的研究。

  (4) 高能皮秒拍瓦激光系统

   提出具备工程实施可行性的高能皮秒拍瓦激光系统技术方案、建立具备高稳定性、高信噪比和大能量输出的高能拍瓦前端预放系统、实现大色散量高能超短脉冲压缩、实现多路高能拍瓦激光输出、实现超短脉冲高聚焦光强和精密瞄准、实现单次超短脉冲信噪比测量。

  (5) 光束控制

  光束参数测量和控制新技术

  (6) 工程设计

  建立系统的全生命周期设计平台;建立柔性的机械性能参数测试平台,检验相关结构性能指标;发展高精度光学仪器、大型光学仪器设计。

  (7) 化学涂膜

  发展三倍频晶体单面涂膜技术,开展批量化、规模化化学涂膜的调研开展石英玻璃三倍频减反膜硬膜的基础性、系统性研究。

  

 

  相关物理实验研究

  (1) 激光驱动冲击波及材料高压特性研究。

  (2) X射线激光及其应用研究。

  (3) 激光等离子体相互作用物理研究。

  (4) 薄膜靶制备技术发展研究。

  (5) 物理实验诊断技术发展研究