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1月8日学术报告:集成电路与光刻机

来源: 发布时间:2021-01-05【字体:

  报告题目:集成电路与光刻机

  报告人:王向朝 研究员 中国科学院上海光学精密机械研究所

  报告时间:2021年1月8日 13:30~16:30

  报告地点:羲和厅(原多功能厅)

 

  摘要:

  光刻机是集成电路制造的核心装备,直接决定了集成电路的微细化水平。光刻机像质检测技术是支撑光刻机整机与分系统满足光刻机分辨率、套刻精度等性能指标要求的关键技术。本次报告将介绍光刻机的发展历程、光刻机整机、分系统与曝光光源的主要功能、基本结构、工作原理、关键技术等内容,并介绍国际主流的光刻机像质检测技术以及本团队提出的系列新技术。

 

  报告人简介:

  王向朝,中国科学院上海光学精密机械研究所研究员,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”(02专项)总体专家组专家。获国际与国内授权发明专利160余项,在国际与国内光学与光刻领域主流期刊发表学术论文360余篇。培养博士研究生60余名(含我国高端光刻机整机技术领域第一批博士研究生)。


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